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　　中国网财经12月22日讯 微导纳米12月18日迎来成立十周年暨上市三周年的里程碑，2015年成立至今，公司瞄准国际前沿的原子层沉积(ALD)技术进行自主攻关，形成了以原子层沉积(ALD)技术为核心，CVD等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，如今半导体设备的出货量已超500台。

　　在十周年庆典上，微导纳米创始人、先导集团董事长王燕清回顾了微导纳米的十年历程，“过去十年，我们坚持以ALD技术为核心，实现了多款国产设备从0到1的突破和从1到N的市场应用。从首台国产high-k 原子层沉积设备，到国内首批国产半导体硬掩膜CVD设备，我们不仅填补空白，更以技术自主的高端装备，奠定了在半导体薄膜沉积领域的技术引领地位。”

　　王燕清表示：“上市三年来，公司整体营收从2022年的6.85亿元增长至2024年的27亿元，增幅达四倍；其中半导体业务增长超过七倍。这份成绩，回报了股东信任，更证明了微导在高端装备领域的强劲爆发力。”

　　在创办初期，面对技术壁垒和资金挑战，微导纳米坚持自主研发，2016年成功研制出适用于太阳能电池片量产的批量型ALD设备，2018年起着力将研发与业务向半导体领域拓展，2020年率先将国产量产型High-k原子层沉积设备应用于28纳米节点集成电路制造前道生产线，实现了国产高端薄膜沉积设备的重大突破，填补了国内关键技术空白。2025年上半年，公司正式推出适用于大规模量产需求的iTomic系列及四站架构腔体的高产能ALD、CVD设备，成为国内少数具备研发和生产空间型ALD设备能力的厂商之一。目前，公司ALD技术已覆盖行业主流薄膜材料与工艺需求；CVD设备在硬掩膜等关键工艺领域取得产业化突破，相关产品已进入存储芯片、逻辑芯片、先进封装等领域。

　　公开市场数据显示，微导纳米ALD产品已连续多年在营收规模和市场占有率方面位居国内同类企业第一。微导纳米副董事长兼CTO黎微明博士在接受采访时指出，目前公司的产品性能已经可以和国际最先进供应商PK，公司国际化的时机已经到来。

　　技术的进步离不开持续的研发投入，黎微明透露，公司靠创新保持市场和技术优势，研发投入比接近 25%，并长年保持高研发投入，这个战略在未来几年不会改变。在他看来，站在十周年的新起点，持续创新仍是关键，会继续“坚持创新驱动引领未来”。黎微明告诉记者，公司的创新中心(原产业化应用中心)，一直在拓展ALD 在多个领域的应用，重视相关技术与其他新兴技术联用、关注新能源电池相关等方面的研发布局:创新中心八成工作重心放在开发新的技术和工艺;其中一些特殊的工艺,在实验室验证阶段已经取得了良好的效果。

　　在大力自主研发的同时，微导纳米积极推动产学研融合，与复旦大学、上海交通大学、南京大学、中国科学院及芬兰赫尔辛基大学等国内外顶尖研究机构和高校建立长期合作，通过共建实验室、联合攻关，加速前沿技术从“书架”走向“货架”。同时，公司积极参与行业技术标准制定，推动多项产业化标准，以龙头之姿助力提升国内薄膜沉积技术整体竞争力。

　　今年前三季度，微导纳米的半导体新增订单同比实现近一倍增长，呈现出强劲的发展态势。基于原子级制造领域的深厚积累，微导纳米正将技术赋能至更广阔天地，持续在半导体主流及新兴应用领域开展前沿开发，布局光学、柔性电子、车规级芯片等高端薄膜沉积应用市场，为未来创造多元增长极。

　　站在新起点，微导纳米的视野早已超越单一设备的供给，正致力于构建以核心技术为驱动的开放创新生态。公司展望未来时提出：“新十年，微导纳米一要坚守技术本色，向科学前沿进军，做深做强底层核心技术；二要拓宽全球视野，对标世界一流，以更开放姿态参与全球竞争；三要深化产业协同，与上下游伙伴共建生态，为中国高端装备制造业发展贡献更多‘微导力量’。”